Laborgebäude Mikrosystemtechnik

Das Laborgebäude Mikrosystemtechnik, an der Ecke Seybothstraße / Universitätsstraße ist ein lang gehegter Traum. Als 1990 an der Ostbayerischen Technischen Hochschule Regensburg der erste Studiengang für Mikrosystemtechnik in ganz Deutschland aus der Taufe gehoben wurde, war schon der Wunsch da, ein eigenes Gebäude für die Ausbildung zu besitzen. Der Planungsauftrag erging dann allerdings erst im Jahre 1994. Der Spatenstich erfolgte am 07. Oktober 1999 und wurde mit großer Freude begangen. Nach der Fertigstellung im November 2002 konnte am 23. Mai 2003 endlich die Einweihung des Gebäudes gefeiert werden.

Die Besonderheit des Laborgebäudes ist die 620 m2 große Fläche. Auf dieser Fläche sind auch 100 m2 Reinraumfläche für das Labor Technologie und 50 m2 für das Labor Analytik enthalten. Diverse Großgeräte sind vorhanden, so dass Prozesse aus der Industrie nachvollzogen werden können.

Auswahl an technologischen Möglichkeiten:

1. Strukturerzeugung

  • Maskenherstellung (10 µm Auflösung)
  • Belacken, Entwickeln: Spin Prozesse
  • Belichten: Doppelseitig (Kontakt, Proximity)
  • Ätzen: Nasschemisch (Batch, Einzelscheiben), zukünftig auch RIE
  • Lack Entfernen: Nasschemisch, O2-Plasma
  • Polymer-Entfernung
  • PECVD und LPCVD(Siliziumnitrid und -oxid)
  • Oxidation und Diffusion
  • Metallsierung (Aufdampfen und Sputtern)
  • Mikromaterialbearbeitung mit Excimerlaser
  • Galvanik

2. Analysen:

  • Kontaktwinkelmessgerät, Bestimmung der Oberflächenspannung und Oberflächenenergie
  • Schichtdickenbestimmung mit Ellipsometrie, Interferometrie
  • Profilometer inkl. Stressmessung
  • Rasterelektronenmikroskope, EDX (Elementanalyse)
  • 3D Laserscan Mikroskopie
  • Ultraschall Mikroskop
  • Elymat
  • Atomares Kraft-Mikroskop (AFM)
  • Spektroskopie: Atomabsorptionsspektralfotometer, IC, FT-IR (mit Mikroskop), UV-VIS, GC-MS, (Mikro)Raman (auch für Stressmessung)